Omschrijving

Dit symposium is bedoeld voor alle technici met belangstelling voor de ontwikkeling van nanostructuren in de chipindustrie. Er zijn twee lezingen van ieder 45 minuten waarin de rol van de lithografie in de productie van structuren op nanoschaal voor chips zal worden behandeld. Martin van den Brink (ASML) zal een overzicht geven van de toepassing van licht en met name het gebruik van extreem ultraviolet (13,6 nm). Erwin Slot (Mapper) levert een bijdrage over het gebruik van zeer veel, apart aan te sturen elektronenbundels voor lithografie op nanoschaal. Het belang van het vermogen van de metrologische gemeenschap om effectieve standaarden op nanometerniveau te bieden zal in een derde lezing worden belicht door Marijn van Veghel (NMI).

Als locatie voor dit symposium is gekozen hotel Breukelen, dat op ongeveer 100 meter van het station van Breukelen ligt. Vier maal per uur arriveren er treinen vanuit Amsterdam, en Utrecht en twee maal per uur vanuit Rotterdam.

Bij voldoende belangstelling wordt een gezamenlijke maaltijd georganiseerd.

Tevens nodigen wij u uit voor het bijwonen van de leden jaarvergadering voorafgaand aan het minisymposium.
De vergadering vangt aan om 17.00 uur en vindt eveneens plaats in Hotel Breukelen. De stukken hiervoor zijn ook in de bijlage te vinden plaats.

Locatie

Hotel Breukelen te Breukelen

Organisator

Technische Fysica

Naam en contactgegevens voor informatie

Nadere informatie bij Elfride Dijksta via onderstaand e-mailadres of telefonisch: 053 - 4894097.

kiviniria@utwente.nl